Wie man ein PCB-Harz-Plugging herstellt
Jun 01, 2022
PCB Resin Plugging ist in den letzten Jahren ein weit verbreitetes und beliebtes Verfahren, insbesondere für hochpräzise Multilayer-Leiterplatten und Produkte mit größeren Dicken. Einige Probleme, die nicht mit grünen Ölstopfenlöchern und Press-Fit-Harz gelöst werden können, sollen durch Harzstopfenlöcher gelöst werden. Aufgrund der Eigenschaften des Harzes selbst müssen Menschen noch viele Schwierigkeiten bei der Herstellung der Leiterplatte überwinden, um die Qualität des Harzstecklochs zu verbessern.

1. Die Herstellung der Außenschicht entspricht den Anforderungen des Negativfilms und das Dicken-Durchmesser-Verhältnis des Durchgangslochs ist kleiner oder gleich 6:1.
Die Bedingungen, die für die Anforderungen an PCB-Negativfilme erfüllt werden müssen, sind:
(1) Linienbreite/Linienabstand ist groß genug
(2) Das maximale PTH-Loch ist kleiner als die maximale Siegelfähigkeit des Trockenfilms
(3) Die Dicke der Leiterplatte ist geringer als die maximale Dicke, die für den Negativfilm usw. erforderlich ist.
(4) Platinen ohne besondere Anforderungen, wie z. B.: teilweise galvanisch vergoldete Platine, galvanisch vernickelte Platine, Halblochplatine, bedruckte Steckplatine, ringloses PTH-Loch, Platine mit PTH-Schlitzloch usw.
Herstellung der Innenschicht der Leiterplatte → Laminieren → Brünieren → Laserbohren → Entbräunen → Bohren der Außenschicht → Kupfersenken → Füllen und Galvanisieren der gesamten Leiterplatte → Scheibenanalyse → Muster der Außenschicht → Säureätzen der Außenschicht → AOI der Außenschicht → Nachverfolgung normaler Vorgang
2. Die Herstellung der Außenschicht entspricht den Anforderungen des Negativfilms und das Dicken-Durchmesser-Verhältnis des Durchgangslochs beträgt mehr als 6:1.
Due to the thickness-to-diameter ratio of the through hole >6:1, kann die Anforderung an die Kupferdicke des Durchgangslochs nicht erfüllt werden, indem die lochfüllende Galvanik für die gesamte Platine verwendet wird. Verkupfern auf die erforderliche Dicke, der spezifische Betriebsprozess ist wie folgt:
Herstellung der Innenschicht → Laminierung → Brünieren → Laserbohren → Entbräunen → Bohren der Außenschicht → Kupfersenken → Füllen und Galvanisieren der gesamten Platine → Vollplatinengalvanik → Scheibenanalyse → Grafik der Außenschicht → Säureätzen der Außenschicht → Nachbereitung des Normalprozesses
3. Die Außenschicht erfüllt nicht die Negativfilmanforderungen, die Linienbreite/Zeilenlücke ist größer als oder gleich a und das Dicken-Durchmesser-Verhältnis der Außenschicht ist kleiner als oder gleich 6:1.
Herstellung der Innenlage der Leiterplatte → Laminierung → Brünieren → Laserbohren → Entbräunen → Außenbohren → Kupfersenken → Ganzplatinenfüllen und Galvanisieren → Scheibenanalyse → Außenlagenmuster → Musterplattieren → Außenlagenalkalisches Ätzen →Outer AOI→Follow -up normalen Prozess







